第643章 掩膜台困局！单日348.2亿？老马：我们能赢吗？（1/2）

直到上午十一点，陈延森才乘车赶到森联科技园。

此时拼呗的总成交额是197.4亿！

时间眼看就要过半，黄征在办公室里满心焦虑。

参照过往的销售节奏，今天的总销售额，乐观估计能突破400亿，要是情况不理想，可能就只有380亿。

可400亿的目标早就定好了，这要是完不成，怎么跟老板交代？

无奈之下，黄征只能把希望寄托在直播卖货板块，同时针对高价值用户，定向追加了一些补贴活动。

至于让商家刷成交额，他没想过。

因为他很清楚，一旦被老板发现，会有什么后果。

另一边。

陈延森刚到办公室，梁劲松和林南就发起了视频会议请求。

“老板，沪城微电子那边已经把投影物镜系统需要的透镜组制作完成了，光学系统所需的大部分模组，我们都搞定了。”

林南面带微笑地分享着。

“华卓精科的掩膜台精度，最高能达到多少？”

陈延森开门见山地问道。

一套完整的反射式光学系统由收集镜、照明系统、投影物镜系统、掩膜版和掩膜台组成。

缺一不可！

前面几项技术都啃下来了，只剩最后一个掩膜台。

这玩意是光刻机中固定掩膜版，并可以实现高精度移动的机械结构，相当于掩膜版的“智能工作台”。

就像一个高速运转、且不晃动的云台！

只不过，掩膜台对速度、精度的要求，是相机云台的数千倍、数万倍。

用大白话来说，掩膜台其实是一个专门“托着掩膜版干活、还得保证它动得又准又稳”的高精度工作台。

比如你要在蛋糕上印图案，掩膜版是那张带图案的模板，而掩膜台是用于摆放这块模板的支架。

它的核心作用是，稳稳托住掩膜版，再按要求精准移动，确保芯片电路能清晰、准确地印在硅片上。

林南脸上的笑容一滞，苦涩一笑：“老板，胡老帮我们联系了清华和华卓精科团队，这两家在掩膜台领域的制造工艺，勉强能达到45纳米。”

光刻机的更新换代是跳跃式的！

别看45纳米和28纳米之间，仅有几代的差距，但28纳米工艺的掩膜台，在速度、加速度、精度和稳定性上的研发难度比45纳米节点高出了几十倍。

全球唯有尼康、佳能和阿斯麦三家的掩膜台，能支持28纳米的工艺制程，而28纳米以上，仅有阿斯麦一家。

而掩膜台通常是作为光刻机整体设备的一部分进行研发和生产的，一般不会单独对外销售。

沉吟半晌后，陈延森缓缓开口：“华卓精科对28纳米掩膜台的研发，有没有具体的技术方向？”

林南听后，连忙调出一份早已准备好的文档，投在共享屏幕上：“胡老提到过，华卓精科在三年前就启动了28纳米级掩膜台的预研，只是卡在了两个核心问题上。

第一，高速运动下的姿态控制，目前他们的伺服系统在加速度达到2G时，精度就会出现微米级偏差；

第二，真空环境下的热变形补偿，掩膜台的金属构件在温度波动0.1摄氏度时，就会影响定位精度，他们试过用碳纤维复合材料，但成本太高，而且加工工艺还不成熟。”

2G？

陈延森哭笑不得。

要知道，掩膜台的加速度越大，可以缩短掩膜台的加速和减速时间，从而提高光刻效率，减少芯片制造的时间成本，这对于大规模芯片生产来说非常重要。

阿斯麦NXT1950iDUV光刻机的掩膜台加速度均值为15G，峰值可达25G。

华卓精科的掩膜台仅仅是能用而已，压根没法商业化。

他算是看明白了，以国内配套产业链的技术实力，很难支撑星源科技完全掌握光学系统的核心技术，这是绕不开的现实问题。

2G的加速度与阿斯麦25G的峰值比起来，就像蹒跚学步的孩童与百米冲刺的运动员，实力悬殊。

而且，加速度过大会对设备的机械结构、驱动系统和控制系统带来更大的压力，进而导致精度下降、稳定性降低和设备寿命缩短等问题。

同时，高加速度还会带来更大的能耗和发热问题，需要更先进的冷却和控制技术来解决。

很明显，华卓精科的技术方案属于‘投机取巧’的类型，故意降低了加速度的数值，从而更容易保证精度和稳定性。

但这样的掩膜台，根本无法满足大规模芯片生产的实际需求。

“我知道了，先跳过掩膜台，把精力放在真空与环境控制系统上。”

陈延森想了想，对着林南吩咐道。

说完，他又看向梁劲松，不紧不慢地问道：“良率有没有提升？”

“老板，当前的良品率稳定在97.5%，只要材料供应稳定，我能在三个月以内，把年产值提升到10亿美币的水准。”

梁劲松信心满满地回答道。

陈延森闻言，微微颔首，示意梁劲松继续介绍产能情况、工艺优化进度和检测环节。

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