第236章 找到宝藏了（1/2）

“……汇报在亚纳米尺度下栅极长度控制及基于新型高迁移率沟道材料的器件集成方面取得的最新进展……实验数据显示，在等效物理栅长0.8纳米条件下，器件性能与漏电控制达到理论预期……为1纳米及以下节点逻辑器件的可行性提供了有力证据……”

1纳米及以下节点！等效物理栅长0.8纳米！

林飞倒吸一口凉气！心脏砰砰狂跳！

这已经不是对口了，这简直是瞌睡遇到了枕头！

不，是饿极了看到满汉全席！

他原本的计划，是找到一些能做芯片设计、或者对现有工艺有深刻理解的人才。

然后利用国际上最先进的2纳米代工厂来生产神脑头盔所需的超高性能芯片。

毕竟，处理海量神经信号、运行复杂意识交互算法，对芯片的算力、能效比要求是天文数字。

他初步估算，至少需要5纳米甚至3纳米工艺才能勉强满足基本需求，理想状态是未来的0.5纳米工艺。

而目前全球最顶尖的量产技术是2纳米，1纳米还停留在实验室探索阶段，至于0.5纳米，更是属于科幻范畴。

可现在，就在江城，就在一所理工大学里，一个低调的老教授和他的学生团队，居然不声不响地摸到了1纳米的门槛，甚至在探索更低的节点？！

而且看报告摘要，他们似乎在最关键的材料和器件物理层面取得了突破性进展！

这意味着什么？

意味着他们研究的，不仅仅是芯片设计，而是包括了制造芯片的核心母机——光刻机以及与之配套的整套工艺整合技术！

只有掌握了更高精度的光刻和工艺，才能造出更小的晶体管！

诚然，林飞从龙傲天的“系统遗产”中，确实拥有完整且远超这个时代的光刻机技术资料，别说1纳米，0.1纳米甚至更夸张的技术都有。

但技术资料是死的，要把图纸变成现实，需要庞大的工程团队、天量的资金投入和以年为单位的时间。

这完全不比研发意识头盔本身简单。

他的计划是，先集中火力攻克脑机接口和虚拟世界技术，用市场上能买到的最好芯片让产品先跑起来，占领市场和生态。

等站稳脚跟后，再慢慢布局自研光刻机和芯片制造，实现全产业链自主可控。

然而，傅国生教授团队的出现，彻底打乱了他的节奏，也给了他一个巨大的惊喜！

如果这个团队真的在1纳米光刻和工艺上接近突破，那岂不是说，他有可能大大提前实现芯片自研的梦想？

甚至，在神脑头盔问世时，就能用上自研的、领先全球的超高性能芯片？

这将是何等巨大的优势！

激动过后，林飞迅速冷静下来。

他仔细分析着获取到的有限信息。

从专利和报告摘要看，这个团队的技术路径非常独特，似乎绕开了一些传统EUV光刻的难点，在新材料和新结构上找到了突破口。

但摘要也含糊地提到“在光源稳定性与缺陷控制方面仍面临最终挑战”。

看来，他们是卡在了最后一个，也可能是最关键的技术瓶颈上。

“了不起……真的了不起……”林飞喃喃自语，心中充满了敬佩。

要知道，目前国内最先进的量产光刻机还停留在28纳米水平。

虽然不断追赶，但与世界最先进的2纳米差距巨大。

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