第一七四五章 大幅减持ASML股票（1/2）

没有多少人知道，由院长邓光辉院士和所长钱富强研究员率领光源研究所的140多名研发人员，经过近3年的潜心研究，在1999年7月就掌握了浸没式光刻系统技术，研发成功全球第一台65n制程工艺的浸没式光刻机试验机，避免刺激美国，秘而不宣，到去年6月17日才公开。

从1999年8月开始立项，bSEc投资1亿元，邓国辉和钱富强带领光刻机光源研究所，静下心来开始研发EUV的同时，在65n制程工艺浸没式光刻机的基础上，经过近六年的潜心研究，研发成功45n制程工艺浸没式光刻机就不足为奇了。

光源研究所所长钱富强研究员凭借在全球顶尖光刻机期刊上发表的30多篇专业论文，在全球光刻机光源行业具有极高的威望，主持研发成功的65n制程工艺浸没式光刻机是全球首创，国际领先技术，具有百亿美元的市场价值等重大贡献，于去年11月，被遴选为工程院院士。

bSEc光刻机研究院如今由邓国辉、欧阳明、陈伟长、夏季常和钱富强等五位院士领衔，技术实力国内第一，在全球光刻机研究机构中也是名列前茅。

bSEc光刻机研究院包括光刻机光源研究所（所长钱富强院士）、硅片制造研究所（副院长兼所长欧阳明院士）、光刻机光学研究所（副院长兼所长陈伟长院士）、光刻机自动化研究所（所长夏季常院士）、光刻胶研究所（所长刘明堂研究员）、刻蚀机研究所（所长陈运复研究员）、光刻机热处理研究所（所长杨鸿涛教授）、掩膜版研究所（所长郭兴程研究员）、离子注入机研究所（所长景清云教授）和光刻机半导体信息部（部长李广均研究员）等九所一部。

近13年来，bSEc光刻机研究院从国内外招聘了2147名教授（副教授）、研究员（副研究员）、高工、博士和硕士，构建完成了从光刻机光源、光刻机光学系统、光刻机自动化、硅片制造、光刻胶、掩膜版、热处理、刻蚀机、离子注入机和光刻机半导体信息部等完整的光刻机半导体技术体系和人才梯队，制定了行之有效的人才培养制度，拥有相关技术专利7231项，其中核心技术专利79项。

招聘国内外相关专业博士毕业生常年不断。

如今bSEc每年申请公司发明专利近千项，相关科技成果如雨后春笋，层出不穷。

bSEc在国内不是孤军奋战，同中K院、华清、燕大、哈工大、西工大、国科大、华中大、沪海硅片制造厂、冰城光源材料厂、金城激光器制造厂和金城金属气体厂等60多家科研院所和公司建立了技术和产品合作机制，联合开发最新一代的单晶硅、光源材料、激光器材料和光刻气体等技术项目，签订长期供货合同，互利共赢。

不久的将来从这些合作公司中诞生几家高科技上市公司只是时间问题。

如今，bSEc掌握了浸没式光刻机的核心技术，研发成功32n、28n、22n、14n、10n制程工艺的浸没式光刻机只是时间问题，已经不担心被人卡脖子。

生产7n、5n制程工艺高端芯片的EUV光刻机是十几年后的事情。

虽然GcA拥有的EUV激光器不可能给bSEc使用，但邓国辉和钱富强领衔的EUV团队已经研究EUV激光器6年，虽然还没有研发成功，但孙健一点都不担心，10年不行，15年！

研发EUV激光器的过程也是技术不断积累、人才不断成长的过程。

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